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上海微电子SSB00步进投影光刻机竞逐O

时间:2019-08-15 19:23:40 来源:互联网 阅读:0次

  一年一度的行业盛会 OFweek LED Awards 2014 行业年度评选 目前企业参评报名已近入尾声,并即将进入 用户投票及专家评选阶段 (2014年9月15日-2014年10月15日)。OFweek LED Awards评选涵括LED产业链的上游至下游,被誉为业界 奥斯卡奖 ,影响颇深。该评选由OFweek中国高科技行业门户主办、OFweek及OFweek照明共同承办,已连续举办第四年,是OFweek2014年高科技行业重要的评选活动之一。

  此次评选上海微电子装备有限公司将携SSB 00步进投影光刻机产品参加 LED设备技术创新奖 评选。

  SSB 00步进投影光刻机

  上海微电子这款SSB 00步进投影光刻机于201 年推出,是国内种专门面向亚微米英寸晶圆光刻工艺需求的半导体光刻设备,具有国内、国际先进水平。

  SSB 00步进投影光刻机运用高精度工件台及调焦调平技术对大翘曲片的面型进行测量,根据测量结果进行实时调焦调平曝光的技术,极大降低了对蓝宝石片面型精度的需求。并且利用多尺寸兼容的物料传输系统与曝光台设计,通过独特的凸点吸附结构,使得2寸/4寸/6寸片子可自动进行切换,可满足不同的物料传输和吸附要求。

  SSB 00系列光刻机采用温压补偿与对准补偿的双重补偿策略和高性能缩减式物镜,可确保亚微米分辨率和高曝光均匀性,实现对焦面的动态补偿,从而提高了曝光的稳定性。

  此外,SSB 00步进投影光刻机完美应用了高精度工件台及掩模台同步跟随技术,可使高精度工件台实现6自由度的运动。掩模台实现 自由度运动,工件台和掩模台的控制采用自适应同步跟随控制技术。同步定位精度MA达到15nm,MSD达到20nm,稳定时间100ms。

  值得一提的是,上海微电子装备有限公司制造的SSB 00步进投影光刻机其性能指标与国际知名公司的同类产品相当,是201 年在国内首次推出了用于LED制造的步进光刻机。该设备不但具有创新性,达到国际先进水平,还推动高端设备的国产化,填补国内该领域的空白。

  OFweek LED Awards 2014 行业年度评选络投票阶段:9月15日-10月15日。在此期间您可以为您关注的企业及产品投上一票!页面即将开放敬请关注!

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